
PECVD-печь для плазмостимулированного химического осаждения из газовой фазы
Назначение
Печи PECVD серии GR используют высокочастотный источник питания с частотой 13,56 МГц, который ионизирует газ, содержащий атомы компонентов плёнки, и образует плазму в вакуумной стеклянной трубке. Благодаря высокой химической активности плазмы газообразные вещества, содержащие компоненты плёнки, вступают в химическую реакцию. Оборудование предназначено для химического осаждения тонкоплёночных материалов на поверхности изделий или подложек при температуре не выше 1050 °C.
Краткое описание
Корпус изготовлен из высококачественной холоднокатаной стали, имеет двухслойную конструкцию и верхнюю открывающуюся крышку; прошёл гибку, прецизионную механическую обработку, сварку и высокотемпературную окраску.
Высокотемпературная футеровка изготовлена из различных огнеупорных волокон, неорганических и небольшого количества органических связующих, смешанных в разных пропорциях; рабочая температура — от 100 до 1600 °C.
Система контроля температуры использует интеллектуальный контроллер. Возможна настройка многосегментных программ с интеллектуальной PID-регулировкой. Нагрев, охлаждение и выдержка проходят плавно. При отключении питания или временной остановке выполнение незавершённой программы может быть продолжено с заданной температурой по умолчанию. Предусмотрена защита от обрыва термопары, перегрева и др.
Оборудование оснащено ВЧ-источником питания мощностью 300–500 Вт; комплектация может быть выполнена по требованиям заказчика.
Прецизионное многоканальное регулирование газа с массовыми расходомерами.
Давление в вакуумной камере регулируется; можно задавать требуемую степень вакуума в камере.
Технические характеристики
| Параметр | Значение |
| Диапазон температур | 300–1050 °C |
| Модель | GR-3-11 |
| Размеры рабочей камеры | φ60, φ80, φ100 мм (возможно изготовление по требованиям заказчика) |
| Способ нагрева | Нагрев сверху и снизу, тепловое излучение и конвекция |
| Термопара | Тип K |
| Точность регулирования температуры | ±1 °C |
| Вакуум в холодном состоянии | 10–1000 Па, регулируемый |
| Максимальная скорость нагрева | 0–20 °C/мин |
| Рекомендуемая скорость нагрева | 10 °C/мин (≤1100 °C) |
| Конструкция корпуса | Шкафная двухслойная конструкция, верхняя открывающаяся крышка печи |
| Материал футеровки | Цельная волокнистая футеровка |
| Нагревательные элементы | 0Cr27A17Mo2 |
| ВЧ-источник питания | 13,56 МГц, 300–500 Вт |
| Способ регулирования температуры | Основной контроллер температуры + регулятор мощности |
| Система защиты | Независимая защита от перегрева, защита от перегрузки по току, утечки тока и короткого замыкания |
| Примечание | Приведённые параметры высокотемпературной печи носят справочный характер. Мы также можем разработать оборудование по предоставленным вами параметрам, чтобы предложить экономичное, долговечное изделие и качественный сервис! Мы уверены, что вы сможете заказать высокотемпературную печь, полностью отвечающую вашим требованиям! Если вам интересно, позвоните для подробной консультации — будем рады обсудить с вами. |